바이오인

미국 특허법 제도에 관한 분석 및 시사점

 

 

주요 내용

미국 특허제도의 메커니즘 및 운영실태 분석 - 수요자 중심의 미국의 주요한 특허제도 연구 - 가출원제도, 계속출원 및 일부 계속출원 등의 장단점 분석, 도입배경 등 - 최근의 미국 특허제도 개선 관련 동향 연구·분석 - 미국제도와 유사한 타국 제도와의 비교법적 연구 (PLT 조약의 출원일 설정제도 등) - 한국의 제도와의 비교·분석 및 시사점 도출 - 양국간 경제적 및 사회문화적 차이에 근거한 제도의 실효성 및 수용성, 성공적 제도도입을 위한 전제조건 및 대안 분석 등 입체적 분석 필요 - 우리나라 특허법 등 관련 법령 개정시 도입방안 검토 
 
 
본문 내용

제1장 서 론
제1절 추진 배경 및 연구 방향
1. 연구의 필요성 21
2. 연구 방향 22
제2절 보고서 구성 및 활용 방안
1. 보고서 구성 25
2. 활용 방안 26

제2장 한국과 미국의 지식재산정책
제1절 한국의 지식재산정책
Ⅰ. 지식재산 분야의 국제동향과 한국의 과제 29
1. 최근의 주요 국제동향 29
2. 미국과 일본의 동향 30
3. 한국의 과제 31
Ⅱ. 지식재산정책 비전과 목표 32
1. 비전 32
2. 지식재산 강국 달성을 위한 단계적 목표 32
3. 정책 방향 33
Ⅲ. 한국 특허청의 2006년 주요업무계획 36
1. 세계 최고의 심사·심판 서비스 제공 36
2. 지식재산의 창출기반 강화 36
3. 지식재산권의 활용 촉진 37
4. 지식재산권의 보호 강화 37
5. 조직의 혁신 38
제2절 USPTO의 21세기 특허전략계획
Ⅰ. 21세기 전략계획 (2차 2002~2006) 39
1. 전략계획 전망 (Strategic Planning Perspective) 39
2. 외부 환경(External Environment)  40
3. 내부 업무 환경(Internal Business Environment) 40
4. 전략적 목표(Strategic View) 42
5. 성과기반 조직(PBO)으로서의 미래지향 44
Ⅱ. 21세기 전략계획 (Updated: 2003.2.3) 45
1. 개요 45
2. 전략 의제 (Strategic Agenda) 46
3. 탄력성 (Agility) 48
4. 능력 (Capability) 49
5. 생산성 (Productivity) 50
6. 장기 의제 (Long-Term Agenda) 51
7. 맺음 52
Ⅲ. 21세기 전략계획 중간 조정 (2006.2.) 54
1. 법률상의 변화 55
2. 국제 협약 56
3. 요구되는 법규의 제정 57
4. 접근법 변화 58
5. 성과 목표의 변경 59
Ⅳ. USPTO와 JPO 간의 PPH 프로그램 61
1. 개 요 61
2. PHH 시범 프로그램 62

제3장 미국 특허제도의 개관
제1절 특허제도의 개요
Ⅰ. 미국의 법률 체계 69
1. 개 요 69
2. 미국 특허법 체계 70
Ⅱ. 특허의 종류 72
Ⅲ. 심사 절차 73
1. 예비 보정 73
2. 한정요구 73
3. 심사관의 OA 73
4. 한국 심사 절차와의 주된 차이점 75
Ⅳ. 출원공개 제도 78
1. 개 요 78
2. 제도의 내용 78
Ⅴ. 등록 및 그 이후 절차 80
1. 특허 허여 및 등록 절차 80
2. 특허권 존속기간 및 연장 81
3. 특허의 정정 82
제2절 미국의 특허요건
Ⅰ. 특허 대상 86
1. 개 요 86
2. 특허를 받을 수 없는 대상 86
3. 실용 특허 87
4. 식물 특허 88
5. 디자인 특허 88
Ⅱ. 명세서의 기재요건 90
1. 발명의 상세한 설명의 기재요건 90
2. 청구범위의 기재요건 91
Ⅲ. 발명의 신규성 (Novelty) 92
1. 개 요 92
2. 신규성 판단 기준일 92
3. 35 USC 102(a) 93
4. 35 USC 102(b) 94
5. 35 USC 102(c) 94
6. 35 USC 102(d) 94
7. 35 USC 102(e) 95
8. 35 USC 102(f)  96
9. 35 USC 102(g) 96
Ⅳ. 발명의 비자명성 (Non-obviousness) 98
1. 의 의 98
2. 시간적 기준 99
3. 심사관의 입증 99
4. 자명성 판단의 기준 101
5. 35 USC 103(c) 규정의 내용 103
Ⅴ. 이중 특허 105
1. 개 요 105
2. 이중특허 거절의 요건 107
3. 이중특허 거절의 극복방법 111
4. 기간포기서(Terminal Disclaimer) 112
Ⅵ. 한국과 미국의 특허요건 비교 116
1. 한국법 제29조제1항과 미국법 제102(b)조 116
2. 한국법 제29조제3항과 미국법 제102(e)/103조 116
3. 이중 특허 117
제3절 미국 특허출원의 종류
Ⅰ. 정규출원과 임시출원 119
1. 정규출원 119
2. 임시출원 121
3. 재발행 출원 125
Ⅱ. 계속출원 126
1. CA 출원 126
2. CIP 출원 126
3. 분할출원 127
4. 선출원의 이익을 받을 수 있는 요건 127
Ⅲ. 계속심사청구 (RCE) 128
1. 의의 128
2. 청구 시기 128
3. 효 과 129
Ⅳ. 조약우선권 주장 출원 131
Ⅴ. SIR (법정발명등록) 132
1. 의의 132
2. SIR 신청 및 심사 132
3. SIR 발행 및 그 효과 133
제4절 심사 절차
Ⅰ. 심사의 순서 135
1. 일반 원칙 135
2. 우선 심사  135
3. 출원에 대한 방식심사 136
4. OA의 중지  139
Ⅱ. 심사관의 OA 141
1. 개 요 141
2. 심사관의 OA 141
3. 응신 기간 146
4. 최종 거절 (Final OA) 149
Ⅲ. 심사관 OA에 대한 출원인의 대응 152
1. 첫 OA 전의 보정 (예비보정) 152
2. OA에 대한 출원인의 응신 153
3. 보정의 범위 155
4. 출원인의 응신 및 그 효과 157
Ⅳ. 한정요구제도 160
1. 의 의 160
2. 한정요구의 종류 161
3. 한정요구의 요건 162
4. 출원인의 대응방안 163
Ⅴ. IDS 제도 (개시의무) 166
1. 개 요 166
2. IDS 요건 167
3. IDS 제출 및 미제출의 효과 169
제5절 특허의 정정
I. 재발행 출원 171
1. 의 의 171
2. 재발행 출원의 이유 172
3. 제출 서류 177
4. 심사 절차 177
5. 재발행의 효과 179
Ⅱ. 정정 증명서 184
1. 의의 184
2. USPTO에 의한 오류의 정정 184
3. USPTO에 의하지 않은 오류의 정정 186
4. Reissue/Disclaimer와의 차이 188
Ⅲ. 포기서 (Disclaimer) 189
1. 의의 189
2. 종류 189
3. 기간 포기서의 철회 190
Ⅳ. 재심사 청구 191
1. 의의 191
2. Ex Parte 재심사 청구 193
3. Inter Partes 재심사 청구 199
4. 재심사 증명서 206
제6절 심판 및 소송
Ⅰ. 심판 (Appeal) 207
1. 심판의 청구 207
2. 심리 절차 208
3. 심결 211
4. 심판 절차의 종결 212
Ⅱ. 사법 심사 215
1. 사법 심사 절차 215
2. CAFC로의 항소 215
3. 민사소송 217

제4장 미국 특허법의 최근 개정 동향
제1절 최근 미국 개정법
Ⅰ. 미국발명자보호법 (AIPA, 1997) 221
1. 출원공개 제도 221
2. 재심사 청구 222
3. 특허 존속기간의 조정 223
4. 35 USC 102(g) 규정 223
5. 35 USC 103(c) 규정 224
6. 계속심사청구 (RCE) 224
7. 선사용자의 항변 225
Ⅱ. CREAT (2004) 226
1. 개정 취지 226
2. 개정 내용 226
Ⅲ. Consolidated Appropriations Act (2004) 228
제2절 미국 특허법 개정(안)
Ⅰ. Patent Reform Act(안) (2005) 230
1. 특허요건 230
2. 심사절차 232
3. 특허권 236
Ⅱ. 계속출원/클레임에 관한 규칙 개정(안) (2006) 239
1. 계속출원 등에 관한 개정(안) 239
2. 클레임 관련 개정(안) 248

제5장 미국 특유제도에 대한 검토
제1절 출원 제도
Ⅰ. 외국어 출원 제도 258
1. 미국의 외국어 출원 제도 258
2. 한국 제도 259
3. 일본의 외국어서면 출원제도 259
4. 도입 여부 검토 259
5. 설문조사 결과 분석 260
6. 소 결 261
7. 참고: 일본의 외국어서면 출원제도 262
Ⅱ. 임시출원 제도 266
1. 미국의 임시출원 제도 266
2. 미국의 임시출원과 한국의 심사청구없는 출원과의 비교 267
3. 도입 여부 검토 268
4. 2006년 한국 특허법 개정(안) 269
5. 설문조사 결과 분석 271
6. 소 결 272
Ⅲ. 선출원일의 이익이 인정되는 출원제도 274
1. 우선권을 수반한 출원의 종류 274
2. 분할 출원 275
3. CIP 출원 (국내우선권 주장 출원) 275
4. 제출 가능 시기에 관한 검토 276
5. 설문조사 결과 분석 278
6. 소 결 281
Ⅳ. 출원인의 선행기술 제출의무 283
1. 미국의 IDS 제도  283
2. 일본의 선행문헌 표시제도  283
3. 미국과 일본 제도의 비교 283
4. 설문조사 결과 분석 284
5. 소 결 286
6. 참고: 일본의 선행문헌 표시제도 287
Ⅴ. 특허출원/심사청구 수수료의 산정 방식 289
1. 미국의 출원수수료 289
2. 한국의 출원/심사청구 수수료 290
3. 미국과 한국의 수수료 산정 방식의 비교 290
4. 수수료 산정 방식에 대한 검토 290
5. 설문조사 결과 분석 292
6. 소 결 296
제2절 심사 제도
Ⅰ. 출원전 공지사유의 선행기술로서의 자격 상실 요건 298
1. 미국법 제102(b)조 298
2. 한국법 제30조(신규성 의제) 298
3. 미국과 한국의 규정 비교 300
4. 실체특허법조약(안) 302
5. 한국법의 신규성 의제 규정에 대한 검토 303
6. 설문조사 결과 분석 305
7. 소 결 308
Ⅱ. 1특허출원의 범위에 대한 심사 절차 310
1. 미국의 심사절차 310
2. 한국의 심사절차 310
3. 설문조사 결과 분석 310
4. PCT의 발명의 단일성 요건 312
5. 소 결 313
Ⅲ. 의견서 제출기간 및 그 연장제도 314
1. 미국의 응신기간 및 그 연장 314
2. 한국의 응신기간 및 그 연장 314
3. 미국과 한국의 제도 비교 314
4. 의견서 제출기간 및 그 연장제도에 관한 검토 315
5. 설문조사 결과 분석 316
6. 소 결 321
Ⅳ. 동일인에 대한 이중특허 문제 323
1. 이중특허 배제의 원칙 323
2. 미국에서 이중특허의 유형 323
3. 미국 및 한국의 제도 비교 325
4. 동일인의 실질적 동일 발명에 대한 이중특허 인정 여부 327
5. 설문조사 결과 분석 330
6. 소 결 332
Ⅴ. 미국의 RCE 제도 333
1. 미국의 RCE (계속심사청구) 제도 333
2. 제도 도입 여부 검토 333
3. 설문조사 결과 분석 335
4. 소 결 336
Ⅵ. 거절결정 이후의 심사/심판 절차 338
1. 미국 제도 338
2. 한국 제도 338
3. 미국과 한국 제도의 차이 338
4. 한국법의 개선방안 검토 339
5. 소 결 341
【참고: 미국 심사관의 최종 처분에 대한 대응방안】
1. 출원에 대해 허여통지서가 발송된 경우 342
2. 미국 Final OA 후의 조치 344
3. 출원 클레임이 일부 허여/거절상태인 경우 345
4. 출원의 모든 클레임이 거절된 상태 348
5. 소 결 349
제3절 등록 및 그 이후 제도
Ⅰ. 등록 이후의 제도 350
1. 미국 제도 350
2. 미국과 한국의 등록 이후의 제도 비교 350
3. BPAI의 기능 351
Ⅱ. 특허등록 후 형식적 사항에 대한 정정 제도 353
1. 미국의 CoC 제도 353
2. 설문조사 결과 분석 353
3. 도입 여부 검토 354
4. 소 결 356
Ⅲ. 특허등록 후 실체사항의 정정을 위한 제도 357
1. 미국의 Reissue 제도 357
2. 미국의 Reissue제도와 한국의 정정심판제도의 비교 357
3. 특허의 정정을 위한 형식의 비교 358
4. 현행 한국법상 정정의 범위 359
5. 등록 후 특허청구범위 확장/변경 인정 여부 364
6. 설문조사 결과 분석 365
7. 소 결 367
Ⅳ. 거절결정불복심판에서 청구항별 심결 제도 368
1. 미국의 심판 제도 368
2. 한국의 거절결정불복심판 제도 369
3. 한국 심판 제도의 개선안 370
4. 설문조사 결과 분석 371
5. 소 결 373
Ⅴ. 심사지연에 기인한 특허 존속기간의 연장 제도 375
1. 미국의 PTA 제도 375
2. 미국과 한국의 평균 심사 소요 기간 375
3. 설문조사 결과 분석 376
4. 소 결 379
Ⅵ. 특허 등록/유지 수수료의 산정방식 380
1. 미국의 특허료 체계 380
2. 한국의 특허료 체계 380
3. 미국과 한국의 특허료 산정 방식의 비교 381
4. 설문조사 결과 분석 382
5. 소 결 383

제6장 한국법으로의 도입 방안
제1절 제도별 도입 여부 검토
Ⅰ. 검토시 고려사항 387
Ⅱ. 출원 제도 389
1. 외국어 출원 제도 389
2. 임시출원 제도 389
3. 선출원일의 이익이 인정되는 출원제도 389
4. 출원인의 선행기술 제출의무 390
5. 심사청구 수수료의 산정 방식 391
Ⅲ. 심사 제도 392
1. 출원전 공지사유의 선행기술로서의 자격 상실 요건 392
2. 1특허출원 범위에 대한 심사 절차 392
3. 의견서 제출기간 및 그 연장제도 393
4. 동일인에 대한 이중특허 부여 문제 393
5. 미국의 RCE 제도 394
6. 거절결정 이후의 심사/심판 절차 394
Ⅳ. 등록 및 그 이후 제도 395
1. 특허등록 후 형식적 사항에 대한 정정 제도 395
2. 특허등록 후 실체사항의 정정을 위한 제도 395
3. 거절결정 불복 심판에서 청구항별 심결 395
4. 심사지연에 기인한 특허 존속기간의 연장 제도 396
5. 특허 등록/유지 수수료의 산정방식 396
제2절 한국법 개정방향에 대한 제언
Ⅰ. 미국 특유제도의 도입 여부에 대한 평가방법 397
1. 종합 평가 방법 397
2. 종합 평가 내용 398
Ⅱ. 한국법의 개정방향 399
1. 시급한 도입이 요구되는 제도 399
2. 적극적인 검토가 요구되는 제도 400
3. 수수료 산정 방식 402
4. 기타 402
5. 소 결 404

제7장 결 론
1. 지식재산을 둘러싼 국제환경 407
2. 지식재산강국 실현을 위한 비전과 전략 408
3. 우리나라 특허제도의 개선방향 409

[부록 1] 설문 조사 내용 및 평가 413
Ⅰ. 개요 413
Ⅱ. 설문의 구성 및 내용 415
Ⅲ. 설문 항목 418
Ⅳ. 설문조사 결과에 대한 평가 425
Ⅴ. 설문조사 결과에 대한 총평 430

[부록 2] 미국 특허 용어 및 그 표기방법 431

[참고 문헌 및 자료] 435